Немецкий монополист поставляет ключевые компоненты для литографов ASML, и теперь его мощности растут рекордными темпами.
Производство самых современных микросхем сегодня упирается в одну точку — оптические системы немецкой компании Zeiss. Без них невозможен ни один литограф ASML, а значит, и чипы для будущих смартфонов, серверов и суперкомпьютеров. Теперь Zeiss SMT объявила о масштабном расширении своих мощностей, чтобы справиться с растущим спросом на оборудование для выпуска 2-нм транзисторов. Разбираемся, как устроена эта технологическая цепочка и почему ставки так высоки.
Расширение Zeiss: ключ к будущему литографии
Немецкий гигант Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology (Zeiss SMT) официально объявил о масштабном расширении своего производственного комплекса в Оберкохене. Речь идет о строительстве 25 тысяч квадратных метров новых помещений — цеха и лаборатории уже начали работу, остальные будут вводиться постепенно. Без преувеличения, это событие мирового масштаба для полупроводниковой индустрии, ведь заводы в Оберкохене и Вецларе остаются единственными на планете, где производят оптические колонны для литографических установок ASML.
И здесь начинается самое интересное. В своем недавнем годовом отчете сама ASml прямо заявляет: объем выпуска литографических машин сегодня упирается именно в производственные мощности Zeiss SMT. По сути, Zeiss — единственный поставщик критических оптических компонентов (линз, сверхточных зеркал, осветительных систем). Останови Zeiss поставки — и производство каждого станка Asml встанет колом, превратив передовые фабрики в груду дорогостоящего металла. Эта монополия — вопрос не просто геополитики, а физики: такую оптику больше никто в мире делать не умеет.
При этом спрос на оборудование ASML растет как на дрожжах. Чтобы хоть как-то угнаться за потребностями клиентов, ASML планирует нарастить выпуск Low-NA EUV-сканеров примерно на 30% уже в 2027 году — с нынешних 65 установок до целевых показателей. Одновременно компания оптимизирует сборку: время сборки одного литографического комплекса хотят сократить с 22 недель до 15-16. Но без Zeiss, который сейчас активно расширяется, эти планы так и останутся мечтами.
High-NA EUV: технологии и инвестиции
С началом массового производства систем нового поколения High-NA EUV сложность оптических компонентов вышла на принципиально иной уровень. Оптическая колонна такого сканера состоит из более чем 40 тысяч деталей и весит около 12 тонн, а система освещения добавляет ещё 25 тысяч компонентов и примерно 6 тонн массы. Изготовление одного зеркала для такой системы занимает несколько месяцев — после производства его проверяют в гигантских вакуумных камерах массой свыше 150 тонн, измеряя отклонения поверхности с точностью до долей нанометра.
Чтобы ускорить расширение производства критически важной оптики, ASML активно финансирует своего единственного поставщика. По итогам 2025 года объём выданных Zeiss SMT кредитов достиг 1,91 млрд евро, а авансы за будущие поставки составили ещё 1,19 млрд евро. Стороны также заключили дополнительные долгосрочные соглашения о финансировании расширения мощностей. Эти вложения уже приносят плоды: по итогам финансового года, завершившегося в сентябре 2025 года, выручка подразделения Zeiss SMT выросла на 23%, до 5,055 млрд евро, что сделало его крупнейшим бизнесом в группе Zeiss.
Параллельно со строительством в Оберкохене компания возводит ещё один производственный комплекс в Вецларе, расширяет площади чистых помещений в Россдорфе и открыла инновационный центр в Южной Корее. Таким образом, Zeiss закладывает фундамент для выпуска High-NA EUV-сканеров в масштабах, необходимых для производства 2-нанометровых чипов.
Пока Zeiss наращивает выпуск сложнейшей оптики, а ASML готовится увеличить производство сканеров на треть, полупроводниковая индустрия получает зелёный свет на освоение 2-нанометрового техпроцесса. Без этих инвестиций будущее микроэлектроники застряло бы в бесконечных узких местах.